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반도체 핵심 포토레지스트 국내 시설 증설···'탈일본' 빨라진다

중앙일보 2020.01.15 13:58
지난해 7월 일본이 수출을 규제한 반도체 핵심소재 포토레지스트의 국내 생산량이 기존보다 2배 이상 늘어날 전망이다. 포토레지스트는 반도체의 노광(Photo) 공정 단계에서 웨이퍼 기판에 패턴을 형성하기 위해 필수적으로 쓰이는 감광재다. 사진은 서울 강남구 삼성전자 서초사옥 딜라이트룸에 전시된 반도체 웨이퍼의 모습. [뉴스1]

지난해 7월 일본이 수출을 규제한 반도체 핵심소재 포토레지스트의 국내 생산량이 기존보다 2배 이상 늘어날 전망이다. 포토레지스트는 반도체의 노광(Photo) 공정 단계에서 웨이퍼 기판에 패턴을 형성하기 위해 필수적으로 쓰이는 감광재다. 사진은 서울 강남구 삼성전자 서초사옥 딜라이트룸에 전시된 반도체 웨이퍼의 모습. [뉴스1]

반도체 핵심소재 포토레지스트를 생산하는 국내 기업이 생산시설 증설에 나섰다. 소재ㆍ부품ㆍ장비의 ‘탈(脫) 일본화’가 속도를 내는 모양새다.
 
15일 산업통상자원부에 따르면 반도체ㆍ디스플레이용 소재 기업인 동진쎄미켐은 올해 1분기 안으로 포토레지스트 생산 시설 증설에 착수할 계획이다. 동진쎄미켐은 2010년 국내 최초로 ‘극자외선(EUV)용 포토레지스트’ 직전 단계인 ‘불화아르곤(ArF) 액침 포토레지스트’ 개발ㆍ생산에 성공했다.
 
포토레지스트는 반도체 제작 공정에서 필수적으로 사용되는 감광재로, 그동안 대부분을 일본에서 수입해 왔다. 산업부는 동진쎄미켐 공장 증설이 마무리돼 내년 초 정상가동되면 국내 포토레지스트 생산량을 2배 이상 늘릴 수 있을 것으로 기대하고 있다.
 
앞서 정부는 지난해 7월 일본이 한국에 대한 반도체 핵심소재 수출을 규제한 이후 대일(對日) 수입 의존도를 꾸준히 낮춰 왔다. 한국무역협회에 따르면 2019년 1~6월 일본으로부터의 포토레지스트 수입 비중은 전체의 92%를 차지했지만, 7~11월 벨기에ㆍ미국ㆍ독일 등으로 수입국을 다변화하는 노력을 통해 의존도를 85%까지 낮췄다.
 
지난 9일에는 미국의 세계적 화학소재 기업 듀폰(DuPont)이 국내에 포토레지스트 개발ㆍ생산시설을 구축하기로 했다. 정부는 오는 2021년까지 포토레지스트 연구ㆍ개발(R&D)에 230억원의 예산을 투입해 국내 기술개발과 양산평가 등을 지원할 계획이다.
 
이날 산업부 정승일 차관은 경기도 화성시 동진쎄미켐 공장을 찾아 “지난해 7월 일본 수출규제 이후 민관이 힘을 합쳐 포토레지스트를 비롯한 ‘소부장’ 3대 품목 등 핵심소재의 공급 안정성이 확보되고 있다”며 “1분기 안에 포토레지스트의 국내 공급 안정성이 더 강화될 것으로 기대한다”고 말했다.
 
임성빈 기자 im.soungbin@joongang.co.kr
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